Дата условная, технический запуск прошел 22 декабря 2025 года, в июне были завершены основные строительно-монтажные работы. А по мелочи процессы стройки будут еще продолжаться, минимум, до конца 2026 года.

Запуск сдвинулся из-за санкций, не все оборудование, которое собирались купить за рубежом, оказалось доступным, несколько десятков критически важных элементов пришлось разрабатывать в стране.

В составе Центра - 34 здания и сооружения с инженерным и технологическим оборудованием. СКИФ позволяет проводить исследования с использованием пучков синхротронного излучения, которое испускают электроны при движении по спиральной орбите в магнитном поле).

СКИФ формирует поток частиц (рентгеновское излучение с маленькой длиной волны), на базе синхротрона в теории можно создать рентенговский литограф для производства полупроводниковых структур по современным техпроцессам. Есть даже конкретные планы создания литографа Орёл-7 с разрешением ниже 28нм.

Но для этого предстоит сделать еще очень и очень многое. Нужно будет, например, оборудование для формирования и стабилизации пучка - излучение должно равномерно засвечивать сравнительно большую площадь, понадобятся системы позиционирования пластины, управляющая система. Нужны шаблоны, способные выдерживать поток частиц, нужны соответствующие фоторезисты. В общем - много чего.

На август 2026 года есть ТЗ на литограф на базе СКИФ, есть проектное видение. Скорее всего, будут строить сразу две опытных установки - одну на базе СКИФ, другую - на синхротроне в Зеленограде. Но до серийного производства по данным технологиям, скорее всего, остаются еще годы. ||

--

✓ Подпишитесь на RUSmicro в Telegram | в Max

--

теги: микроэлектроника научное оборудование производственное оборудование оборудование для производства

--