В 2025 году Prinano представила установку PuLin PL-SR (степпер) для производства фотонных кристаллов на основе так называемой наноимпринтной литографии (Nanoimprint Lithography, NIL), не путать с фотолитографией.

Технология действительно может найти применение в микроэлектронном производстве, но пока что не претендует на возможность заменить EUV-литографию для производства передовых логических микросхем. EUV-установки ASML обеспечивают более высокую плотность размещения элементов, возможность многошаговой обработки. Но для кремниевой фотоники хватает и возможностей наноимпринтинга. Эта установка, похоже, является репликой решения Canon FPA-1200NZ2C, а этот инструмент умеет создавать линии плотностью до 10нм.

картинка - компании Prianano, наноимпринтный степпер PuLin PL-SR

🎓 Как работает NIL-установка? Первым делом изготавливается шаблон-штамп с рельефной наноструктурой (для этого применяется электронно-лучевая литография). На подложку наносят резист, который под давлением отверждается УФ-излучением. Механизм прецизионного совмещения обеспечивает точное наложение и прижим шаблона к подложке, далее производится отверждение резиста и начинаются обычные процессы – травления, промыки, металлизации и т.п. Как правило, вместе с установкой наноимпринтинга применяют систему контроля качества отпечатка (используется атомно-силовая микроскопия).  

Импринтные установки позволяют обойтись без сложнейшей оптики и мощных лазерных источников. Только на сниженном потреблении электроэнергии можно сэкономить значительные средства. В обмен предъявляются сложно реализуемые требования к штампу и поддержания чистоты процесса.  

Стоит отметить, что Prinano не раскрыла такие ключевые показатели, как объём выпуска, данные о выходе годных, плотности дефектов. Нет информации о заказчиках и независимого подтверждения заявленных результатов также не представлено.  

Наноимпринтная технология известна не первый день, ей давно и активно занимаются в Японии. Canon совместно с Toshiba создали прототип NIL‑установки для 5‑нм фотонных чипов. В 2025 году они запустили пилотную линию по выпуску оптических компонентов для ЦОД. В Токийском Университете пробуют сочетать NIL и плазменное травление, добиваясь разрешения в 18нм. Sharp использует NIL для производства волноводов и резонаторов для LiDAR-систем.  Компания Dai Nippon Printing (DNP) заявляет, что уже испытывает технологию с планами начать серийное производство в 2027 году. В декабре 2025 года компания показывала технологию с шириной линии 10нм на выставке SEMICON Japan 2025 в Токио. Ширина линии 10 нм была достигнута с помощью так называемой технологии саморегулируемого двойного формирования рисунка (паттернинга) или SADP.

--

теги: микроэлектроника Китай Prianano наноимпринтинг наноимпринтная технология степпер литография оборудование для производства микроэлектроники

--