Изготовитель, в лице гендиректора ЗНТЦ Анатолия Ковалева, подтвердил, что два опытных образца проходят комплекс испытаний, которые завершатся осенью, далее предусмотрен следующий комплекс испытаний – на точность изображение и другие технические параметры.

Собственный электронно-лучевой литограф - актуальная разработка для России с типичными для нашего рынка малыми объемами заказов на микросхемы. Такие установки неплохо подходят для малосерийного производства, поскольку позволяют сразу «рисовать» микросхемы, не тратясь на недешевую маску. Удобны эти установки и для прототипирования и НИОКР, ускоряя процесс разработки и исследований.

ЭЛЛ, кроме того, можно использовать для изготовления масок для зрелых процессов фотолитографии.

Если говорить о возможных сложностях, то стоит упомянуть о проблемах обеспечения равномерности рисунка по всей площади пластины - это требует тщательной метрологии, качества управления пучком. Нужны электронно-чувствительные резисты, которые тоже предъявляют немалые требования к качеству.

В заметке не говорится, под какие размеры пластин создана установка. Предполагаю, что это 150 мм, но возможно, есть совместимость и с 200 мм. Это нужно уточнять.

--

✓ RUSmicro в Telegram l на MForum| Max

--

теги: электронно-лучевая литография производственное оборудование для производства микросхем безмасочные

--