О шагах по созданию установки рассказали в Томске на научно-техническом семинаре «Актуальные технологии и оборудование для литографии и обработки фоторезистов» - сообщает сайт компании.

По данным докладчика, на данный момент полностью готовы технический проект и конструкторская документация. Уже собраны и прошли испытания макеты ключевых элементов будущего литографа, а также проведено необходимое компьютерное моделирование его работы. Ориентировочные сроки завершения работ и передачи установки заказчику в открытых источниках не сообщаются.

Значимость разработки и планы по развитию

Электронно-лучевая литография — это метод нанолитографии, который позволяет получать структуры с высоким разрешением и является основным способом изготовления высокоточных фотошаблонов (масок) для последующего массового производства интегральных схем. Разрабатываемый литограф мог бы закрыть критически важную потребность российской микроэлектроники в создании подобных шаблонов.

В перспективе инженеры «ЭСТО» планируют усовершенствовать установку для работы с техпроцессом 90 нм. Также в дорожной карте значится внедрение системы автоматической перегрузки SMIF-контейнеров — это решение компания ранее представляла на международной выставке вакуумного оборудования VacuumTechExpo в апреле 2025 года, что подтверждает ее активность в развитии смежных технологий.

--

За новостями телекома и IT удобно следить в телеграм-канале abloud62. Региональные новости и анонсы пресс-релизов вы найдете в канале abloudRealTime, также подключайтесь к каналу Бойко про телеком ВКонтакте

теги: электронно-лучевой литограф литография электронно-лучевая отечественное оборудование разработки микроэлектроника Китай

--