Н.И. Чхало, И.В. Малышев, А.Н. Нечай, В. Паульс, В.Н. Полковников, Институт физики микроструктур РАН, Н.Новгород. Конспект выступления Н.И. Чхало на XXIX симпозиуме Нанофизика и наноэлектроника.

Н.И. Чхало:

По итогам последних 3 лет можно констатировать, что «процесс пошел». Самое новое, что произошло – скорректирована концепция, дорожная карта развития рентгеновской литографии.

Произошел сдвиг по срокам, в рамках первого этапа до создания этой альфа-машины пройдет примерно 4 года. А второй этап – это уже создание на ее основе, путем ее доведения, индустриальной машины.

Мы беремся за 4-х зеркальный объектив с очень скромной апертурой NA=0.14. При этом поле засветки у такой машины будет как у машины ASML: высота 26 мм, а ширина W’ ~ 0.5мм.

3 марта 2025 года стартовал аванпроект ФПИ «Обоснование технической возможности создания отечественного рентгеновского проекционного литографа». Лед тронулся! У нас есть и соисполнители.

У нас активно работы ведутся по лазерно-плазменным источникам рентгеновского излучения. Причем с привлечением внешних партнеров. Раньше мы все сами пытались делать, теперь и Троицк в этом направлении начал работать. А Троицк – это те люди, которые, по сути, создали теорию лазеро-плазменных источников ASML, это очень мощная команда.

Мы хотим немного повысить числовую апертуру NA, чтобы, во-первых, добиться патентной чистоты системы с 4-зеркальным объективом, а во-вторых, чтобы повысить контрастность.

Есть возможность плавно перейти от первой экспериментальной машины к индустриальной машине.

Коллектив у нас вырос, много молодых ребят, они точно все сделают.

🔹 Конспект выступления Н.И. Чхало на XXIX Симпозиуме "Нанофизика и наноэлектроника"

🔹 Видеозапись выступления

--

За новостями телекома и IT удобно следить в телеграм-канале abloud62. Региональные новости и анонсы пресс-релизов вы найдете в канале abloudRealTime, также подключайтесь к каналу Бойко про телеком ВКонтакте

теги: конспекты микроэлектроника фотолитография

--