Голландская компания ASML, мировой монополист в производстве литографических систем, объявила о ключевом этапе готовности своих инструментов следующего поколения.

По словам технического директора Марко Питерса, новые High-NA EUV (высокоапертурные) сканеры достигли технической зрелости, необходимой для начала массового производства сложнейших чипов, включая процессоры для ИИ.

• Оборудование уже обработало 500 000 кремниевых пластин и демонстрирует достаточную точность для печати современных наносхем.
  
  
• В настоящий момент достигнута бесперебойная работа на уровне 80% (uptime). ASML планирует повысить этот показатель до 90% к концу 2026 года.
  
  
• Новый инструмент позволяет заменить несколько циклов обработки на старом оборудовании одним проходом High-NA, что снижает сложность и себестоимость производства.

Стоимость одной системы High-NA примерно $400 млн - вдвое дороже предыдущего поколения EUV. Несмотря на это, крупнейшие производители (Intel, TSMC, Samsung) уже активно тестируют новые машины.

Питерс отметил, что хотя технологически машины готовы, производителям потребуется ещё 2–3 года на интеграцию новых сканеров в действующие производственные линии (фабрики). Тем не менее, накопленный опыт уже позволяет говорить о том, что отрасль получила инструмент для выполнения амбициозных "дорожных карт" в сфере искусственного интеллекта.

--

теги: микроэлектроника фотолитография высокоапертурные High-NA EUV ASML производственное оборудование фотолитографы

--