По утверждению разработчиков, технология позволяет формировать элементы чипов в 10 раз меньше, чем современные системы, используя пучок шириной в 0,1 нм, - это в 135 раз меньше длины волны EUV-лазеров, используемых в самых современных фотолитографах ASML (13,5 нм).

Принципиальное отличие

В фотонной литографии разрешение ограничено дифракционным пределом длины волны, тогда как атомы гелия это частицы, а частицы не подвержены дифракции.

Возможность формирования тонкого пучка позволяет полностью обойтись без методов многократного формирования рисунка (multi-patterning), которые сегодня используются для расширения возможностей EUV-сканеров в сторону все более плотно располагаемых узлов микросхемы.

По словам научного директора по литографии Imec Джона Петерсена, переход к работе с потоком частиц открывает существенную возможность уменьшать транзисторы и другие компоненты. Генеральный директор и сооснователь Lace Бодил Хольст характеризует свою технологию как то, что в конце концов обеспечит разрешение атомного уровня размеров.

Статус и планы

Компания Lace Lithography была основана в 2023 году физиком Бодил Хольст (Университет Бергена) и Адриа Сальвадором Палау. Сейчас в Lace работает более 50 человек в Норвегии, Испании, Великобритании и Нидерландах.

В феврале 2026 года компания представила результаты на конференции SPIE Advanced Lithography + Patterning. К 2029 году планируется развернуть испытательный стенд на пилотном производстве.

Альтернативы ASML

Lace присоединяется к числу стартапов, ищущих способ обойти монополию ASML в передовой литографии.

Американские Substrate и xLight развивают источники света на основе ускорителей частиц для EUV- или рентгеновской литографии (xLight получила $150 млн госфинансирования США). Canon поставила первый инструмент наноимпринтной литографии в Техасский институт электроники еще в сентябре 2024 года, а китайская Prinano предлагает аналогичные решения на внутреннем рынке.

Подход Lace отличается радикально: он полностью отказывается от электромагнитного излучения, что означает отсутствие готовой экосистемы технологических процессов, на которую можно было бы опереться. Разрыв между лабораторным прототипом и серийным производством остается колоссальным - ASML потратила десятилетия и миллиарды долларов, чтобы превратить EUV из исследовательской идеи в промышленный продукт.

Даже при наличии финансов, стартапу Lace Lithography предстоит долгий путь к коммерческому продукту, если ему, в конечном итоге, суждено будет появиться.

Отрадно видеть, что даже в современном состоянии ЕС, в Северной Европе еще хватает светлых голов на подобные исследования.

по материалам Tom's hardware

--

✓ подключайтесь к моим каналам на VK: Бойко про телеком и каналу Чипы и чиплеты  

--

теги: микроэлектроника фотолитография BEUV горизонты технологий

--