К задаче получения разрешения 90 нм можно подходить по-разному, и далеко не всегда требуется создание принципиально нового литографа.

Путь первый: эволюция существующего

Если в распоряжении фабрики есть хороший фотолитограф, предназначенный для 130 нм, то с помощью двукратного экспонирования и сложных методов коррекции (OPC, фазовые маски) теоретически можно пытаться «дотянуть» его до 90 нм.

Для этого потребуется доработка оптической системы, замена фоторезистов и серьезные изменения в системе управления. Теоретически такую установку можно использовать даже для 65 нм, но это потребует еще больших усилий и снизит рентабельность производства.

У некоторых российских производителей есть зарубежные фотолитографы, которые изначально создавались с учетом работы с техпроцессом 90 нм, например, ASML PAS 5500/1150C, работающий на длине волны 193 нм (ArF). Вопрос в том, удается ли сегодня поддерживать их в рабочем состоянии и получать на них нужный результат.

Путь второй: разработка своего

Полагаться на старое и сложное в обслуживании зарубежное оборудование - рискованно. Поэтому логично задуматься о собственном. Но здесь важна последовательность действий.

Сначала нужно создать свой литограф для 130 нм. Этим занимается Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ). По планам, разработка такой установки на длине волны 248 нм (KrF) должна завершиться в сентябре 2026 года (или будет все же 193 нм?). И только после этого, имея готовую платформу, можно говорить о ее развитии до 90 нм. Возникает вопрос: возможно ли это с 248-нм лазером? Если там 193 нм, то в теории возможно.

В России разработкой лазера 193 нм занимались Оптосистемы?

Какие еще проблемы возможны:

🔹 Оптика. Это, пожалуй, ключевая проблема. Производство высокоточных линз из специальных материалов (например, фторида кальция) для 193 нм - это очень сложно. В России такая оптика вряд ли производилась (или я об этом не знаю). Санкции делают ее закупку за рубежом практически невозможной, а создание собственного производства - сложнейший и долгий проект.

🔹 Механика. Прецизионный рабочий столик с нанометровой точностью позиционирования - не менее сложный компонент. Без него невозможен ни один современный литограф. Это требует уникальных компетенций в области мехатроники и систем управления.

Что из этого следует?

Даже если разработка литографа для 90 нм действительно начнется в 2026 году, быстрых практических результатов я бы не ожидал.

Вероятный сценарий: сначала будет завершена работа над базовой установкой на 130 нм, затем на ее основе начнется создание прототипа для 90 нм. Это займет не один год. Появление промышленного образца, готового к серийному выпуску микросхем, - задача на вторую половину десятилетия, а то и на начало 2030-х годов.

--

✓ подключайтесь к моим каналам на VK: Бойко про телеком и каналу Чипы и чиплеты  

--

теги: микроэлектроника фотолитография 90нм производственное оборудование

--