MForum.ru
26.12.2025,
О контракте на 1.1 млрд юаней ($110 млн) на отгрузку степпера SMEE SSC800/10 сообщает TrendForce со ссылкой 21jingji.
По данным ICsmart, это KrF литограф с источником 248 нм и разрешением 110 нм. Процесс – сухая литография, точность совмещения – 15 нм. Совсем не революционно в плане технологий. Впрочем, источник может ошибаться.
В таблице приведены данные литографов серии 600, а но сегодня
речь идет о контракте на литограф новой серии - 800.
В чем отличия серий пока что не ясно
Отмечу новую букву в обозначении. Ранее было известно о машинах SSX и SSB, а что означает эта "С" - мне пока что не ясно (по логике картинки выше - это может указывать на применение лазера KrF).
Контракт разыгрывало Министерство науки и технологий Китая. Кто выступит конечным получателем оборудования – не сообщается (есть слухи, что это некая компания Yandong, но это не точно). Из других неизвестных: используются ли в этом оборудовании лазер и оптическая система китайской разработки.
Ранее, когда упоминались машины SSx800, то говорилось (в рамках слухов), что это машины под техпроцессы 28 нм. Но пока что нет прямых свидетельств в пользу того, что SSB800 может обеспечить работу с такими техпроцессами.
--
За новостями наземного и спутникового телекома удобно следить в телеграм-канале abloud62. Региональные новости телекома, новости искусственного интеллекта и ЦОД вы найдете в канале abloudRealTime, новости микроэлектроники можно найти в моем канале RUSmicro, также подключайтесь к каналу Бойко про телеком ВКонтакте
теги: микроэлектроника SMEE фотолитография фотолитографы производственное оборудование для производства микроэлектроники
--
Публикации по теме:
25.03.2026. SK Hynix разместила у ASML крупнейший публичный заказ на EUV-оборудование на $8 млрд
23.03.2026. В России могут начать работы над литографом для техпроцесса 90 нм в 2026 году
23.03.2026. Бельгийская imec получила в свое распоряжение ASML High NA EUV
03.03.2026. ASML планирует расширение линейки производственного оборудования
27.02.2026. ASML объявляет о готовности High-NA EUV к массовому производству AI-чипов
03.02.2026. Российский фотолитограф Прогресс СТП-350 оценили в 392 млн (без НДС)
27.01.2026. ASML растет на буме ИИ
11.05.2024. Intel, возможно, получит все High-NA EUV сканеры, произведенные ASML в 2023-2024 году
23.04.2024. США - рынок микроэлектроники
09.04.2024. Бизнес японской Towa Corp. растет на интересе к ИИ
26.03.2024. Китай без доступа к технологиям ASML не останется?
22.03.2024. ASML
11.03.2024. Микроэлектроника в Японии
05.11.2022. Intel
23.10.2019.
Рынок оборудования для производства микроэлектроники
23.09.2019.
Зарубежные участники рынка микроэлектроники
17.08. Российский форум "Микроэлектроника 2026" открыл регистрацию участников
17.08. ГК «Элемент» запускает серийное производство модулей и блоков в Алабушево
17.08. Билайн обеспечил стабильным покрытием сети 4G/LTE еще один участок трассы М-5 в Челябинской области
17.08. МегаФон модернизировал сеть в Пригородном районе Северной Осетии
17.08. Китай запустил 24-ю группу спутников SatNet
13.08. Билайн отчитался за 2q2026 и за первое полугодие
13.08. Геостационарные спутники еще поживут за счет «дозаправки в космосе»
13.08. Lockheed Martin и Verizon показали обнаружение летающих беспилотников с помощью сети 5G и ИИ
13.08. МТС завершила масштабное обновление сети LTE в Красноярске
12.08. В России завершен третий этап ОКР по созданию фотолитографа с проектными нормами 130 нм
12.08. Рынок полупроводников и компонентов для ЦОД превысит $1,8 трлн через 5 лет - Dell’Oro Group
12.08. В России официально запущен в работу источник синхротронного излучения СКИФ
12.08. МТС улучшила связь в одном из самых отдаленных районов Новосибирской области