Микроэлектроника: Китайская SMEE получила стратегический госконтракт на поставку литографа

MForum.ru

Микроэлектроника: Китайская SMEE получила стратегический госконтракт на поставку литографа

26.12.2025, MForum.ru


О контракте на 1.1 млрд юаней ($110 млн) на отгрузку степпера SMEE SSC800/10 сообщает TrendForce со ссылкой 21jingji.

По данным ICsmart, это KrF литограф с источником 248 нм и разрешением 110 нм. Процесс – сухая литография, точность совмещения – 15 нм. Совсем не революционно в плане технологий. Впрочем, источник может ошибаться.

 

В таблице приведены данные литографов серии 600, а но сегодня
речь идет о контракте на литограф новой серии - 800.
В чем отличия серий пока что не ясно

 

Отмечу новую букву в обозначении. Ранее было известно о машинах SSX и SSB, а что означает эта "С" - мне пока что не ясно (по логике картинки выше - это может указывать на применение лазера KrF).

Контракт разыгрывало Министерство науки и технологий Китая. Кто выступит конечным получателем оборудования – не сообщается (есть слухи, что это некая компания Yandong, но это не точно). Из других неизвестных: используются ли в этом оборудовании лазер и оптическая система китайской разработки.

Ранее, когда упоминались машины SSx800, то говорилось (в рамках слухов), что это машины под техпроцессы 28 нм. Но пока что нет прямых свидетельств в пользу того, что SSB800 может обеспечить работу с такими техпроцессами.

--

За новостями наземного и спутникового телекома удобно следить в телеграм-канале abloud62. Региональные новости телекома, новости искусственного интеллекта и ЦОД вы найдете в канале abloudRealTime, новости микроэлектроники можно найти в моем канале RUSmicro, также подключайтесь к каналу Бойко про телеком ВКонтакте

теги: микроэлектроника SMEE фотолитография фотолитографы производственное оборудование для производства микроэлектроники

-- 

© Алексей Бойко, MForum.ru


Публикации по теме:

25.03.2026. SK Hynix разместила у ASML крупнейший публичный заказ на EUV-оборудование на $8 млрд

23.03.2026. В России могут начать работы над литографом для техпроцесса 90 нм в 2026 году

23.03.2026. Бельгийская imec получила в свое распоряжение ASML High NA EUV

03.03.2026. ASML планирует расширение линейки производственного оборудования

27.02.2026. ASML объявляет о готовности High-NA EUV к массовому производству AI-чипов

03.02.2026. Российский фотолитограф Прогресс СТП-350 оценили в 392 млн (без НДС)

27.01.2026. ASML растет на буме ИИ

11.05.2024. Intel, возможно, получит все High-NA EUV сканеры, произведенные ASML в 2023-2024 году

23.04.2024. США - рынок микроэлектроники

09.04.2024. Бизнес японской Towa Corp. растет на интересе к ИИ

26.03.2024. Китай без доступа к технологиям ASML не останется?

22.03.2024. ASML

11.03.2024. Микроэлектроника в Японии

11.03.2024. Технологическим прорывом в изготовлении микросхем Huawei обязана американским поставщикам производственного оборудования

05.11.2022. Intel

23.10.2019.  Рынок оборудования для производства микроэлектроники

23.09.2019.  Зарубежные участники рынка микроэлектроники

Обсуждение (открыть в отдельном окне)

В форуме нет сообщений.

Новое сообщение:
Complete in 1 ms, lookup=0 ms, find=1 ms

Последние сообщения в форумах

Все форумы »



Поиск по сайту:


Колонка редактора

17.08. Российский форум "Микроэлектроника 2026" открыл регистрацию участников

17.08. ГК «Элемент» запускает серийное производство модулей и блоков в Алабушево

17.08. Билайн обеспечил стабильным покрытием сети 4G/LTE еще один участок трассы М-5 в Челябинской области  

17.08. МегаФон модернизировал сеть в Пригородном районе Северной Осетии

17.08. Китай запустил 24-ю группу спутников SatNet

13.08. Билайн отчитался за 2q2026 и за первое полугодие

13.08. Геостационарные спутники еще поживут за счет «дозаправки в космосе»

13.08. Sony передает контроль над производством своих флагманских сенсоров тайваньской TSMC в обмен на доступ к передовым техпроцессам

13.08. Lockheed Martin и Verizon показали обнаружение летающих беспилотников с помощью сети 5G и ИИ

13.08. МТС завершила масштабное обновление сети LTE в Красноярске

12.08. В России завершен третий этап ОКР по созданию фотолитографа с проектными нормами 130 нм

12.08. Рынок полупроводников и компонентов для ЦОД превысит $1,8 трлн через 5 лет - Dell’Oro Group

12.08. Трамплин Электроникс, НИУ МИЭТ и ЗНТЦ совместно будут развивать в России технологии полного цикла корпусирования процессоров Иртыш

12.08. В России официально запущен в работу источник синхротронного излучения СКИФ

12.08. МТС улучшила связь в одном из самых отдаленных районов Новосибирской области

Все статьи >>