Ситуация начинает меняться - бельгийская imec получила в свое распоряжение ASML High NA EUV фотолитограф и сможет выпускать наиболее совершенные микросхемы. Кардинальных изменений в расстановку сил на рынке микроэлектроники это не принесет, но все же европейцы хотя бы получат возможность самостоятельно экспериментировать с перспективными чипами.

Компания imec в свое время помогла ASML разработать технологию EUV. На базе новой установки, компания планирует предоставлять компаниям и исследователям совместный доступ для производства микросхем (в том числе - в режиме разделения пластины). Фотолитограф High NA EUV станет центральным элементом пилотного проекта imec по разработке современных чипов. Стоимость линии - 2,5 миллиарда евро, из которых 1,4 миллиарда - государственное финансирование, в том числе из бюджета ЕС в рамках Закона о микросхемах.

Стоимость приобретенной установки - порядка $400 млн. Пока что в мире развернуто менее десятка таких установок, они сосредоточены, в основном, у Samsung и Intel, одна установка закуплена японским предприятием Rapidus.

--

✓ подключайтесь к моим каналам на VK: Бойко про телеком и каналу Чипы и чиплеты  

--

теги: производственное оборудование фотолитографы High NA высокоапертурные

--