Микроэлектроника: РФЯЦ-ВНИИЭФ разрабатывает автоматизированную установку жидкостного химического травления полупроводниковых пластин диаметром до 200 мм

MForum.ru

Микроэлектроника: РФЯЦ-ВНИИЭФ разрабатывает автоматизированную установку жидкостного химического травления полупроводниковых пластин диаметром до 200 мм

05.08.2026, MForum.ru

Информацией поделился CNews. Исполнителем выступает ФГУП «РФЯЦ-ВНИИЭФ», Саров, Ростатом. Сумма контракта – 1,43 млрд. Работа из четырех этапов должна быть завершена до 30 ноября 2029 года.


Установка ЖХТ позволяет проводить химическое травление, очистку, промывку и сушку. Оборудование работает с химическими реагентами (HF, H₂SO₄, H₂O₂, HCl, NH₄OH) при температуре до 160°C. Оно способно обрабатывать за цикл до 100 пластин, обеспечивать их автоматическую загрузку и выгрузку с использованием SMIF-загрузчика. Равномерность травления по пластине – не более 5%. (Функциональными аналогами являются: Shellback Torrent / Siconnex BATCHSPRAY, Shellback MERCURY™+, а также японская Tokyo Electron ZETA™+ 200).

Критические компоненты установки: герметичная процессная камера, ротор, кассетный модуль, узлы спрей-системы подачи реагентов, системы подачи химии, вентиляции и газоочистки, центральный контроллер и программное обеспечение – все это должно быть отечественным (впрочем, по согласования с заказчиком допускается и применение импортных комплектующих).

Совсем недавно, в июле 2026 года РФЯЦ-ВНИИЭФ получил еще один заказа от Минпромторга – на разработку установок бондинга и дебондинга полупроводниковых пластин. В рамках проекта будут созданы два типа установок: для временного соединения полупроводниковых пластин с пластиной-носителем (бондинг), а также для дебондинга и очистки кремниевых пластин. Сумма контракта – 992,85 млн руб.

Интересно… Помнится в 2026 году мы ожидали линейку установок жидкостно-химической обработки полупроводниковых пластин (ЖХО) от ЭСТО и НИИС Седакова, в 2025 году был готов опытный образец транспортно-перегрузочного модуля (ТПМ), их вроде бы производят теперь серийно. Но где же линейка установок ЖХО этих производителей?

--

✓ новости телекома в Max

--

теги: микроэлектроника производственное оборудование РФЯЦ-ВНИИЭФ жидкостное химическое травление ЖХТ контракты Минпромторг

--

© Алексей Бойко, MForum.ru


Публикации по теме:

05.08.2026. В России разработали многолучевый катод для использования в электронных литографах

30.07.2026. LG начала продажи собственного безмасочного литографа за $2 млн

28.07.2026. В Китае начинается ограниченное серийное производство иммерсионных DUV-литографических машин 28нм

24.07.2026. Белорусский Планар разрабатывает для российского рынка 9 установок участка создания фотошаблонов

20.07.2026. В России создана установка электронно-лучевой литографии (безмасочной) на 150 нм

10.07.2026. Fab2 – фаб фабов или как гаражный проект стал бизнесом, востребованным в отрасли

23.06.2026. Импортзамещение в Китае поставило в сложное положение японских вендоров оборудования для производства полупроводников

22.06.2026. Нанотроника зарегистрировала дочернее предприятие в Индии

20.06.2026. «Детективная история» вокруг EUV-установки ASML – смог ли Китай заполучить одну из запретных для него установок?

20.06.2026. В НИИМЭ разработают кластерную установку алюминиевой металлизации методом вакуумного напыления

16.06.2026. С сентября 2026 года производителям производственного оборудования микроэлектроники придется доказывать его российскость балльной системой

02.06.2026. Минпромторг выделит еще 2 млрд на импортзамещение оборудования для эпитаксии

14.05.2026. В России работают над проектом рентгеновского фотолитографа

23.03.2026. В России могут начать работы над литографом для техпроцесса 90 нм в 2026 году

23.03.2026. Бельгийская imec получила в свое распоряжение ASML High NA EUV

11.03.2026. Applied Materials объединяет усилия с Micron и SK Hynix для разработки DRAM, HBM и NAND следующего поколения

03.03.2026. ASML планирует расширение линейки производственного оборудования

27.02.2026. ASML объявляет о готовности High-NA EUV к массовому производству AI-чипов

25.02.2026. Микрон разработает установку измерения рассовмещения топологических слоев на пластинах 150 и 200 мм

03.02.2026. Российский фотолитограф Прогресс СТП-350 оценили в 392 млн (без НДС)

Обсуждение (открыть в отдельном окне)

В форуме нет сообщений.

Новое сообщение:
Complete in 2 ms, lookup=0 ms, find=2 ms

Последние сообщения в форумах

Все форумы »