Запущена очередная закупка, на этот раз под техпроцессы 310-440нм. Для этого нужны фоторезисты типа i–, g–, & h–line, функциональные аналоги, например, PFR IX420H японской JSR. Об этом сегодня рассказали Ведомости.

Хотя техпроцессы 310-440 нм давно относятся к зрелым, их продолжают активно применять в производстве микросхем. Они вполне годятся для таких применений, как силовые ключи, драйверы двигателей, аналоговые аудиоусилители, простые контроллеры для бытового применения в пылесосах, кофеварках, холодильниках, дискретные полупроводники для датчиков. В целом эти техпроцессы подходят там, где нужна надежность, но не требуются миллионы узлов, высокая плотность их размещения на кристалле.

Ранее фоторезисты под эти техпроцессы закупали за рубежом, как правило, в Европе или в Японии (эта страна – лидер по производству фоторезистов в мире). Сейчас продолжать такие закупки стало сложно и дорого, отечественного производства нет, а в Китае хотя и есть собственное производство фоторезистов, их качество пока что не всегда удовлетворительное. Да и в целом, о какой импортнезависимости можно говорить, не имея собственного производства фоторезистов.

Хватит ли предложенных 390 млн на разработку фоторезистов и производство опытной партии? Вполне может хватить, если разрабатывать не с нуля, а доверить это участникам рынка с соответствующей экспертизой, благо они в России есть. Другое дело, начать серийное производство – на это потребовалось бы в 5-10 раз больше средств.

Минпромторг и ранее заказывал разработки фоторезистов, можно упомянуть, например, проект Фотолиз, в рамках которого проводилась разработка фоторезистов для фотолитографов в которых используют лазеры KrF (длина волны 248 нм, для техпроцессов 130-250 нм), тогда бюджет был 1.1 млрд. Другая российская разработка фоторезистов проходила в рамках проекта Резист-1 – под лазеры ArF (под длину волны 193 нм, техпроцессы до 90 нм).

Если говорить о российских участниках рынка, которые имеют ту или иную экспертизу в области разработки и мелкосерийного выпуска фоторезистов, можно упомянуть зеленоградские НИИМЭ и Фраст-М, Ниопик из Долгопрудного, Поликетон из Поволжья. Фоторезистами для электронно-лучевой литографии занимались, например, в ФИЦ ИПТМ РАН.

Зарубежный рынок фоторезистов, это, прежде всего, такие японские компании, как Fujifilm Electronics, JSR, Shin Etsu Chemical, Tokyo Ohka Kohyo, Tokyo Electron. Среди американских отмечу DuPont; в Южной Корее Donjin Semichem, Kolon Industries, Samsung Electronics, SK Material Performance; на Тайване – Eternal Materials и Topco Scientific; в Китае – Chung Chun Chemical, Crystal Clear Electronic Material, E-Town, Jiangsu Nata Optoelectronic Material, Taiziwei.

Завершая разговор по теме, хочется задаться вопросом… Фоторезисты – далеко не единственная «химия», которая требуется для процессов производства микроэлектроники (и не только микроэлектроники, фоторезисты используют, например, и в производстве печатных плат). Но если на разработку фоторезистов мы тендеры видим, то что с остальными материалами. Их для полупроводникового производства нужно более 10-15 тысяч. В частности, в тандеме с теми же фоторезистами зачастую используют антиотражающие покрытия. Их планируется импортзамещать? Соответствующие разработки кто-нибудь координирует (про разработку нескольких десятков материалов слышать приходилось, но их на 2-3 порядка больше)?

--

За новостями телекома и IT удобно следить в телеграм-канале abloud62. Региональные новости и анонсы пресс-релизов вы найдете в канале abloudRealTime, также подключайтесь к каналу Бойко про телеком ВКонтакте

теги: микроэлектроника господдержка фоторезисты НИОКР

--