Микроэлектроника: Экспериментальный производственный участок ПХТ и ПХО на Микрон. Фоторепортаж. Часть 1

10.12.2025, MForum.ru

НИИМЭ и НИИТМ (оба предприятия входят в ГК Элемент) завершили завершили разработку и сборку первых в России кластерных систем для процессов плазмохимического осаждения (ПХО) и травления (ПХТ). Вашему вниманию - фотографии рабочих установок, развернутых на производстве Микрон.

фрагмент кластерной установки ПХО (плазмо-химического осаждения), фото - RUSmicro

,

фрагмент кластерной установки плазмохимического травления, фото - RUSmicro

Оглавление материалов, посвященных встрече - здесь

--

За новостями наземного и спутникового телекома удобно следить в телеграм-канале abloud62. Региональные новости телекома, новости искусственного интеллекта и ЦОД вы найдете в канале abloudRealTime, новости микроэлектроники можно найти в моем канале RUSmicro, также подключайтесь к каналу Бойко про телеком ВКонтакте

теги: микроэлектроника ПХО ПХТ плазмохимического производственное оборудование Элемент НИИМЭ НИИТМ Микрон

Публикации по теме:

02.06.2026. Минпромторг выделит еще 2 млрд на импортзамещение оборудования для эпитаксии

14.05.2026. В России работают над проектом рентгеновского фотолитографа

23.03.2026. В России могут начать работы над литографом для техпроцесса 90 нм в 2026 году

23.03.2026. Бельгийская imec получила в свое распоряжение ASML High NA EUV

11.03.2026. Applied Materials объединяет усилия с Micron и SK Hynix для разработки DRAM, HBM и NAND следующего поколения

03.03.2026. ASML планирует расширение линейки производственного оборудования

27.02.2026. ASML объявляет о готовности High-NA EUV к массовому производству AI-чипов

25.02.2026. Микрон разработает установку измерения рассовмещения топологических слоев на пластинах 150 и 200 мм

03.02.2026. Российский фотолитограф Прогресс СТП-350 оценили в 392 млн (без НДС)

25.01.2026. Азия продолжает формировать основную долю в расходах на оборудование для производства полупроводников